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品玩9月28日讯，据 IT 之家报道，ASML 首席技术官 Martin van den Brink 日前表示，ASML 正在准备向客户交付首台 High-NA EUV 光刻机，大概会在明年某个时间点完成。
Brink 表示， ASML 正有序推行其路线图，在 EUV 之后是 High-NA EUV 技术。High-NA EUV 光刻机会比现有的 EUV 光刻机更为耗电，从 1.5 兆瓦增加到 2 兆瓦。主要原因是因为光源，High-NA 使用了相同的光源需要额外 0.5 兆瓦，ASML 还使用水冷铜线为其供电。
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