全球最资讯丨ASML 计划明年将向客户交付首台 High-NA EUV 光刻机

时间:2022-09-28 09:53:58       来源:品玩


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品玩9月28日讯,据 IT 之家报道,ASML 首席技术官 Martin van den Brink 日前表示,ASML 正在准备向客户交付首台 High-NA EUV 光刻机,大概会在明年某个时间点完成。

Brink 表示, ASML 正有序推行其路线图,在 EUV 之后是 High-NA EUV 技术。High-NA EUV 光刻机会比现有的 EUV 光刻机更为耗电,从 1.5 兆瓦增加到 2 兆瓦。主要原因是因为光源,High-NA 使用了相同的光源需要额外 0.5 兆瓦,ASML 还使用水冷铜线为其供电。

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